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题名/责任者:

集成电路制造技术:原理与工艺/王蔚, 田丽, 任明远编著

版本说明:

第2版

出版发行项:

北京:电子工业出版社,2016.04

ISBN及定价:

978-7-121-28277-5/CNY49.90

载体形态项:

12, 356页:图;26cm

并列正题名:

Intergrated circuits manufacturing technology, principles and methodology

个人责任者:

王蔚 (集成电路) 编著

个人责任者:

田丽, 1973- 编著

个人责任者:

任明远 编著

学科主题:

集成电路工艺-教材

中图法分类号:

TN405

相关题名附注:

英文题名取自封面

书目附注:

有书目 (第355-356页)

提要文摘附注:

本书共五个单元, 系统介绍了当前硅集成电路制造普遍采用的工艺技术, 具体包括硅衬底、氧化与掺杂、薄膜制备、光刻、工艺集成与封装测试等。

使用对象附注:

工业和信息化部“十二五”规划教材 电子科学与技术类专业精品教材

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